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自立式8吋快速退火炉(RTP-3-08系列)
自立式8吋快速退火炉(RTP-3-08系列)
RTP-3-08系列自立式8吋快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(8英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。
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自立式6吋快速退火炉(RTP-3-06系列)
自立式6吋快速退火炉(RTP-3-06系列)
RTP-3-06系列自立式6吋快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(6英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。
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自立式4吋快速退火炉(RTP-3-04系列)
自立式4吋快速退火炉(RTP-3-04系列)
快速退火炉RTP-3-04系列采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品（4英寸样品）快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。
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